HP1200G-XRD
X射线衍射冷热台
产品简介：
HP1200G-XRD 高温热台专为XRD小角散射和同步辐射的高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域，可加装样品接电引线，可定制样品区。此款热台可在 30℃ ~ 1200℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，这样可以充入氮气等保护气体，来防止样品在高温下反应，高温XRD热台通过细致温控与多环境模拟，为高温材料行为研究提供了不可替代的原位分析手段，为X射线衍射分析仪设计的原位装置，控制材料在温度变化时的即时响应，能够适配布鲁克、赛默飞、理学、岛津等主流XRD设备。
功能特点
智能控制：通过触摸屏或软件编程，实现多段温度曲线设定、自动保存数据
支持气氛（惰性气体）环境，满足不同实验条件
模块化上盖设计，可切换为光学冷热台，实现一机多用
Kapton膜视窗确保X射线穿透性，支持0~70°衍射角全覆盖
支持气氛（惰性气体）环境，满足不同实验条件
模块化上盖设计，可切换为光学冷热台，实现一机多用
Kapton膜视窗确保X射线穿透性，支持0~70°衍射角全覆盖
温控参数
| 温度范围 | 30℃ ~ 1200℃ |
| 传感器/温控方式 | S型热电偶 / PID控制 |
加热/制冷速度 | ±0.5℃/min ~ +100℃/min |
温度分辨率 | 0.1℃ |
| 温度稳定性 | ±1℃ |
| 适用光路 | 反射光路 |
| 入射角度 | 0°~85° |
| 加热区/样品区 | Φ15 mm |
| 安装方式 | 水平安装 |
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